第113章 必須對光刻機的係統進行改造
作者:康泓      更新:2020-10-20 17:17      字數:2477
  郭一略一沉思,便知道安城在擔心什麽,他也是笑了笑,然後說道:

  “這種製程工藝的提升並不具備通用性,這種改造的原理很簡單,我也隻是在光刻十步法的基礎上進行的微調。

  光刻十步法,這並不是什麽新鮮的東西,其中的流程大家都知道,這是基礎原理。

  如果用在同類型的光刻機,也就是魔都微電子的90n這款光刻機上,我的改造方案是有參考價值的。但換一種光刻機的話,那就完全不適用了。”

  郭一想了想,就接著說道:“問題不大,不用做什麽特別的限製。而且,這真的不是什麽先進的東西。”

  設計和改造,那都是一對一的,同樣的光刻機參照郭一之前的改造方案,製造14n芯片是有可能的。

  但要升級,那就必須郭一親自到場,對所有可能影響製造的東西都進行精密細致的推演才行。

  其他光刻機,這個設計方案的隻有理論參考價值,而且非常小,重要的是方案的重新設計。

  而重新設計的這個過程,那可是郭一通過極致推演得來的,別人想學也學不到的啊。

  至於理論,那就更沒什麽保密的了。郭一運用的也都是基礎原理,隻不過是通過推演把細節做到極致了而已。

  “而且,我相信沒人願意走的。”郭一自信的笑容,讓林欣很是著迷。

  “我這裏不僅有製造的技術,以後還會有更高級更高級的技術,甚至光刻這種東西,以後都會漸漸的淪為低端貨。

  隻有待在這裏,才能接觸到更高端更先進的技術和理念,一旦離開,那就意味著落伍。”

  郭一接著說道:“以後,有我所在的地方那隻有擠破頭往裏進的的。想往外跑的肯定都是目光短淺的人,這樣的人走就走吧,目光短淺的人我們也不稀罕。”

  看著郭一自信的樣子,安城也是笑了,這理念、這思維一般人還真是比不了。

  不過,郭一確實有這樣的實力,這一點,安城絲毫不懷疑,郭一這幾個月的表現安城可都看在眼裏呢。

  “那好。”安城也是說道:“就按你說的做。公司這就要到了,接下來怎麽安排?召集工程師們一起見個麵嗎?”

  “不,不用召集他們,讓他們該做什麽做什麽,我們直接去a1廠。”

  郭一來的目的很明確,那就是現場觀摩生產,現場推演生產的各個流程,看哪個方麵還有能夠改進的地方,至於見人,暫時沒有必要。

  “那好。”

  安城也是頗為感慨,兩個月前,自己過來的時候,想要領導這些高級工程師們,還必須要施一些手段,給一些利益。

  哪像郭一,這人還都沒到,這些高工就已經心悅誠服了。

  “這也許就是知識的力量吧?”安城內心也是瘋狂的這樣感慨著。

  ……

  “常工,郭工直接a1廠了。”

  嚴格來說,郭一現在是拜仁的最大股東,不過他不管事兒,在未來也想過要管事兒,這次來的也很低調。

  穿了一身防靜電工衣和其他防護裝備之後,直接就在安城的帶領下出現在了a1廠。第一天,他的主要任務就是熟悉整個流程。

  “啊?沒有來辦公區?直接去了工廠?是要做什麽?”

  常凱也有些懵,難道不應該先開個會,跟大家見個麵聊一聊嗎?怎麽這麽直接的?

  他根本不知道,無論任何時候,郭一都不是喜歡開會的一個人。

  即便非開不可的會,他也喜歡開小會開短會,上來就說重點問題,說完就各幹各的去,從不玩兒毫無意義的長篇大論那一套。

  “看來,這是一個實幹家啊!”常凱最後感慨道:

  “不會這就直接上手為再次改進生產工藝進而生產芯片去做論證了吧?”

  這,還真讓常凱說準了,郭一的目的就是這個,否則他連吳州都不會來,有這時間,直接待在中州睡大覺不香嗎?這些天他忙得睡覺的時間比起一年前減少了至少三分之二。

  實地來到工廠,跟看工程師們給的生產流程詳細資料,那是完全不同的感覺。

  這一切都在眼中,郭一隻要一愣神,那就是一番極致的推演。

  現代的製造工廠,即便是最高端的芯片製造工廠,那也不可能完美無瑕,這世界上就不存在完美無瑕的東西。

  郭一這一推演,這些瑕疵根本就無所遁形,直接展現在眼前。

  其中一些瑕疵無關緊要,改進成本較高,對整個生產工藝的影響也不是很大,郭一直接就略過了。

  他要找的就是那些關鍵性的控製節點,比如這個——掩膜版與晶圓的對準工藝。

  掩膜版與晶圓的對準至關重要,它將直接限製芯片的集成密度和電路的性能。

  a1工廠現在正在使用的這款步進掃描投影光刻機,采用的是四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術,以及高速高精的自減振六自由度工件台掩模台技術。

  這種步進掃描投影光刻機在對準的過程中,晶圓片並不直接對準掩膜,而是圓片和掩膜經過各自的光路,對準於曝光係統的光學鏈上。

  而這兩個過程的精準匹配非常重要,些微的係統誤差對芯片的性能就會產生影響。

  郭一也是一遍又一遍的重複著現在的這個過程的推演,他不是沒找到問題,但找到這個誤差容易,但要消除它,那也確實沒那麽簡單,需要極為精密的調整。

  當大量光穿過掩膜時,不可避免的會造成掩膜材料的發熱,發熱膨脹,這是一個無法避免的事情。

  即便是掩膜版采用了熱膨脹係數極低的材料,在071度的溫度變化下也會產生01微米的膨脹。

  可不要小看這01微米,就是它造成的掩膜版和晶圓片的對準精度誤差,從而影響了之後的曝光精度和製程工藝。

  “熱膨脹無法避免,這個係統內幾乎所有原件都受到熱膨脹的影響。”

  郭一這樣思索著:“而這裏邊一定有某種聯係,也絕對存在某種恰好的選擇,使得這些熱膨脹之間通過各自的相互作用,最後達到一種完美的效果。”

  郭一這樣想著,腦子裏漸漸有了一個解決方案。

  光刻機是精密的,但在郭一眼裏,它再精密能精密的過人類的大腦嗎?

  大腦接收信息的規律都被總結出來了,光刻機所使用的這些關鍵材料才多少?

  總結出一個把各種材料的熱膨脹影響相互抵消的方案,那根本就沒有多大的難度。

  相比於之前的總結大腦視覺信號規律,這個甚至要簡單的多了。

  “不過,這就涉及到另外一個問題,那就是光刻機的控製係統了。”

  郭一閉上眼,點了點頭,確認現在光刻機的控製係統是不適用自己的改造方案的。

  “必須對光刻機的係統進行改造。”郭一心裏有了決定。