七個人挨個聊了一遍，最後倉耀祖找上了傑克袁，他主要是要交代傑克袁一些事，倉耀祖希望傑克袁聯絡一下加州大學伯克利分校的胡正明教授。

  胡正明被半導體行業譽為“ffet之父”，倉耀祖找上他，正是要委托他研究一下ffet技術，目標是解決25納米之後半導體器件的微細化問題，這個技術的專利倉耀祖必須拿在手裏，ffet技術的細節倉耀祖會整理出一個文檔交給胡正明教授，想必這項技術的研發就不會拖那麽久了，今年就應該能搞定。

  倉耀祖還想以這個研發項目為由，讓胡正明教授去燕都一段時間，倉耀祖希望能把胡正明老爺子請去清微半導體擔任技術負責人。

  胡正明教授前幾年還是清大的榮譽教授，倉耀祖希望這次把合作夯實再夯實，把合作深入下去，而不是浮於表麵。要知道挖到胡正明教授，不止在技術上好處多多，倉耀祖非常想挖的一個人就是胡教授的關門弟子梁孟鬆。

  梁孟鬆是灣灣人，研發實力超強，號稱半導體行業的呂布，之所以叫呂布，自然是因為他多次叛門跳槽，台積電、三星、華芯國際都留下了他的傳說。

  現在的梁孟鬆在台積電並沒有那麽醒目，還沒出什麽成績，把他挖到清微半導體或者山腰科技都是不錯的選擇，反正留給台積電或者三星可就是嚴重資敵了，那可就十分不好了，倉耀祖可不想給自己增加難度。人情、金錢、股份齊上，不惜代價也要拿下他啊。

  除了胡正明教授這個ffet之父外，倉耀祖想要挖的還有兩個人，一個是華夏刻蝕機之父尹誌堯，一個就是林本堅。

  刻蝕機不說了，雖然沒有光刻機重要，但也是半導體行業不可或缺的重要設備。光刻機、刻蝕機和薄膜沉積設備是芯片製造過程中的三大核心設備，如果把芯片比作一幅平麵雕刻作品，那麽光刻機是打草稿的畫筆，刻蝕機是雕刻刀，沉積的薄膜則是構成作品的材料。

  光刻的精度直接決定了元器件刻畫的尺寸，刻蝕和薄膜沉積的精度則決定了光刻的尺寸能否實際加工，因此光刻、刻蝕和薄膜沉積設備是芯片加工過程中最重要的三類主設備。

  那一世，直到2004年尹誌堯才回國創建了中微半導體，這一世，倉耀祖希望提前促成這件事情，嗯，缺人挖人，缺錢投錢，砸也砸出一個刻蝕機頭部企業。

  而林本堅，他就是那一世台積電如廝強橫的一大保證了，倉耀祖教給清微半導體的浸入式光刻技術就是林本堅提出並堅持推動的結果。

  其實浸入式光刻技術在1984年就由日本人takanashi在一項美國專利中提出了，他定義了浸入式光刻機最基本的結構特征，即在最後一級物鏡與光刻膠之間充入一層透明的液體。

  發明專利的時效隻有20年，隻可惜這項專利誕生的“過早”，前世真正意義上的浸入式光刻要在若幹年後才會出現，takanashi也因此與巨額專利費擦肩而過。

  但這一世呢，倉耀祖已經讓葛栗琴的律師事務所買斷了這個專利，雖然專利時效隻有不到8年了，但8年時間也足夠了。

  現在的浸入式光刻之所以不被重視，是因為人們找不到好的浸入液，比如浸入液是環辛烷的話。浸入液的充入、鏡頭的沾汙、光刻膠的穩定性和氣泡的傷害等關鍵問題很難解決，因此，人們對浸入式光刻並沒有什麽深入的研究。

  現在的主流技術是幹式光刻，無論是尼康、佳能還是阿斯麥都是如此。如果能找到好的浸入液，那麽，在高端光刻領域，浸沒式光刻就是幹法光刻的完美替代技術，而新舊技術的替代帶來的就是光刻機的完全壟斷。

  林本堅在2002年後提出了以折射率為144的去離子水為浸入液的方案，比較完美地解決了浸入式光刻的其它問題，此舉徹底改變了光刻行業以及整個半導體行業。這是一項很偉大的改進，可以說，打敗尼康光刻機和佳能光刻機的就是這簡單而又神奇的去離子水。

  什麽是去離子水呢，就是去除了離子的水。因為水是一種萬能的溶劑，在自然界的水中會溶解有很多種類的鹽類，而這些鹽類在水中均有一定程度的電離現象，從而產生很多種類的陰陽離子。所以，溶解了鹽類物質的水是可以導電的，這不利於光刻的進行。

  那去離子水就不導電了嗎？當然還是導電的，隻不過去離子水的導電能力就很弱了，是介於導電體和絕緣體之間的半導體。

  林本堅生於1942年，祖籍潮汕，長於西貢，求學於灣灣，就職於ib22年，1992年他50歲時提前退休，現在創建了領創公司。

  倉耀祖準備這兩天就親自去見見林本堅先生，並收購他的領創公司，為邀請他加盟清微半導體掃清障礙，鋪平道路。

  倉耀祖盯上灣灣那邊的半導體人才也是沒辦法的事情，主要是國內這方麵的人才培養出現了斷層，確實是沒有什麽能獨當一麵的人物，因為實在是沒有這個成長環境啊。

  基本上把半導體領域的事情搞了個大概以後，倉耀祖就放鬆了下來。要說老老實實搞搞互聯網，輕鬆簡單還來錢快，多好的事情啊，可是不謀萬世者不足謀一時，不謀全局者不足謀一域。

  互聯網企業發展到最後是什麽呢，坐吃山空，轟然倒塌嗎？亞馬遜最後還是在網絡上賣書嗎？從圖書到各種品類，從紙質圖書到電子圖書，再到電子書閱讀器硬件，數據中心，雲計算、流媒體、影視、人工智能，生物醫藥。。。

  一家巨頭公司崛起之後，會甘於困守一域嗎？不可能的，橫向擴張是必然的選擇。

  那麽倉耀祖現在所做的更多，就是為了以後了，他可不想像威盛、中興、華為那樣被人掐住脖子摁在地上摩擦，太憋屈了。

  既然如此那就從現在做起。半導體、影視、互聯網，硬件、內容和新媒體渠道聯動，最大限度地聯動，倉耀祖還有一個計劃就是純電汽車，特斯拉的域名和商標他早就注冊好了的，隻是還沒啟動而已。

  後世華夏比較欠缺的兩大樣，一個是光刻機，另一個就是發動機了，要知道到2020年代，華夏要進口3000多億美金的芯片，還要進口3000多億美金的原油，這是很大的兩塊兒外匯支出。

  因為瓦森納協定的關係，半導體行業華夏發展起來舉步維艱，因此倉耀祖就想通過清微半導體，以浸入式光刻技術和雙重成像技術來詐稱技術突破，在打亂西方光刻機研發節奏的同時，也是希望阿斯麥、尼康、佳能等光刻機公司投入更多的資金來研發下一代光刻機，等他們資金鏈緊張了，看他們會不會繼續禁止出口光刻機給華夏的企業。

  畢竟以前有例可循，一旦華夏研發取得突破，西方的成熟技術產品就會大批量砸掉華夏研發技術的市場，讓華夏的後續研發成為無水之源，因為缺乏資金而放棄繼續研發，畢竟隻投入沒產出的事情誰也受不了啊，心態絕對會崩。

  這就是半導體這塊兒倉耀祖的騷操作，當然隻靠這些小花招，也許能蒙蔽一時，長久之下還是會曝光的，但倉耀祖要的也就是一時的蒙蔽，隻要那幾家公司上當那麽一下下，華夏的困局就能解開很多。而距離euv極紫外光刻機的商用，差不多還要二十年，華夏加大這方麵的研發力度的話，研發進程是完全能趕上來的，畢竟，華夏在激光光源這塊還是挺強的。

  euv光刻機的極紫外光源主要采用的是將二氧化碳激光照射到錫等靶材上，激發出135n的光子，作為光刻機光源，這種光源具有光學質量近乎完美、高速且完全相同的脈衝，具有半導體行業所要求的清潔度、精確度和可重複性。

  激光光源好解決，難的是那近3萬個機械零件，有頂級的鏡頭和光源，沒極致的機械精度，也是白搭。光刻機裏有兩個同步運動的工件台，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。

  不管多難吧，隻要有了一定的基礎，再來發動全國的研發力量，突破總是會越來越多的，一家公司肯定是幹不成，那就大家一起幹好了，不就是砸錢嘛，當然，這個錢不能倉耀祖來砸，他還要在米國這邊混呢。

  倉耀祖隻能是出出餿主意，然後一切的一切都交給楊斯正和倪光南來做，讓他們去向國家要錢要政策，講明利弊和未來的發展形勢，保證投入必有產出，即使沒產出也能逼迫西方國家放鬆設備出口以搶占華夏的光刻機市場，投入個幾十億美金，相比於以後每年那幾千億美金的支出，怎麽講都是劃算的。

  倉耀祖也給楊斯正和清微半導體指明了方向，浸沒式光刻，雙重成像技術，反射鏡代替透鏡技術，磁懸浮驅動技術，真空腔體的極紫外光係統，反正倉耀祖把他知道的統統都倒給了老楊，能做成什麽樣，說實在的他也使不上太大力氣了，畢竟他也不是這個專業的，也不能現轉專業去搞科研吧。

  明麵上，倉耀祖和清微半導體是沒有任何關係的，股份一點兒不占，職位更是沒有，砸錢那是不可能的，最少明麵上不可能。挖人也是為楊斯正挖的，關係必須撇清。這也算是倉耀祖的未雨綢繆吧。

  至於電動汽車的研發，特斯拉倉耀祖當然也是不會放過的，他很早就讓葛栗琴找到了馬丁·艾伯哈德，他現在正要和馬克·塔彭寧一起創立nuvoebook電子書，可以說是世界上的第一款電子書了。

  馬丁·艾伯哈德和馬克·塔彭寧會在2003年一起創立特斯拉公司，然後打拚幾年之後被埃隆·馬斯克趕出了公司，埃隆·馬斯克把特斯拉的五位創始人中的其他四位都踢出了公司，資本的力量真可怕啊。

  葛栗琴明天就會帶著這兩個人過來和倉耀祖見麵，這兩個人現在矽穀，他們正在尋找資金來投資建立新媒體公司，倉耀祖收購的nen公司的一些技術也可以轉授權給他們，加快電子書開發的進程。

  另外，說到電子書，就不得不提電子墨水技術，掌握這項技術的ek公司現在還沒有創建，應該還在麻省理工學院搞研發呢，嗯，這家公司也必須投資啊，要投資的公司還真多呢。

  這方方麵麵的事情是真多啊，看來倉耀祖也要組建秘書團隊了，讓栗姐幫忙招人吧，最好是養眼一點，身邊妹子多，男士是謝絕的，要知道堡壘往往都是從內部被攻破的。