倉耀祖對於光刻技術的發展還是很了解的，無論是沉浸式光刻，還是極紫外光刻EUV，不過，倉耀祖手裏沒人啊。看來得去忽悠忽悠老楊。給老楊上上眼藥。

  說到光刻技術，還不能不提英特爾，那句IntelPentiuminside的廣告很牛逼啊，給電腦一顆奔騰的芯，嘿嘿，不行，還得和英特爾搗搗亂。

  倉耀祖直接找上了老楊的辦公室，並不是楊崇山，他隻能算小楊，老楊是清大的校長楊斯正，然後直接開撩，不對，是聊：“老楊啊，不用二十年，國內的半導體進口數值肯定會突破5000億華夏元的規模，全球半導體產值最少會突破3萬億華夏元，這麽大的盤子，咱們不能拱手讓人啊，這麽大的蛋糕，咱們要是隻能看著卻吃不著，你們清大就是國家的罪人啊。”

  “你就不是罪人嗎？”

  “我當然不是了，我可不是搞半導體的。”

  “好吧，你確實不是搞半導體的。可是光刻機這一塊兒可不好搞啊。人家有先發優勢的，現在是市場經濟，大家都是利益為先。我們這邊研究出來一代光刻機，人家就把比我們更強更便宜的光刻機賣進國內來了，他們是良性循環，咱們是惡性循環。研發就陷入了無水之源，投入不起啊。企業們也都抱著造不如買，買不如租的思想，根本不想投入研發啊。”

  “老楊啊，你知道溫水煮青蛙嗎？咱華夏就是這隻青蛙啊，等到光刻機的研發徹底斷檔斷代，人家不賣給你了呢，不但機器不賣給你，芯片都不賣給你了呢，你應該知道，冷戰啊，貿易戰啊，局部戰爭啊，這些發生的概率是100%的，到時候，斷炊的那些企業會不會戳你們清大以及華科院的脊梁骨罵娘啊。”

  “到那時候啊，我都退休了，說不定還入土了，罵也罵不到我的頭上。”

  “嗬嗬，就算你聽不到，也會把你掛在曆史的恥辱柱上。趨利避害確實是企業的市場本能，可國家能和企業一樣的思維嗎？大學能和企業一樣的思維嗎？這麽發展下去，咱們華夏的半導體行業就會變成一頭隻知道耕地的牛，鼻環卻握在別人的手裏，你說這事兒嚇人不？”

  “別和我說這些大道理了，我懂得比你多，你小子就和我說怎麽辦吧，我知道你這是又要搞事情了，來，來，我老楊等著，等著你拿錢砸死我。”

  “美死你，憑什麽我拿錢啊，我拿得起嗎我？那5千億，上萬億的市場又不給我，我犯不上，正所謂在其位謀其政，我既不是國家領導，又不是清大校長，讓我拿錢？我拿不著啊。我啊，今天就是給你出出主意，好讓你啊以後的幾十年能過得問心無愧。”

  “好，好，你說吧，隻要你的主意有用，我就是去求爺爺告奶奶，去作揖下跪，我都去把錢弄來。”

  “用不著，你們那麽多校友呢，你看燕郵募集來多少錢了啊，你們這體量，不可能募集不來一些資金啊，先啟動了再說唄，後麵有國家有銀行呢。要打破這個怪圈，隻有兩個辦法，一個是國家死命砸錢根本不管怎麽虧，虧一年能虧出去個5000億嗎？虧不了。這樣集中力量辦大事，發動能發動的一切力量，不按套路出牌，超速發展，一舉追上他們。第二個辦法就是等，等領先者遇到瓶頸了，他們有個坎兒很難邁過去，而你又咬緊牙關砸錢虧錢追，肯定能追上。”

  “你說得輕巧，國家現在哪兒哪兒都是窟窿，哪兒哪兒都要發展，半導體這個行業不是靠投入就能投出來的。你第二個辦法更不靠譜。”

  “第一個辦法要有力度，最大的力度。第二個辦法還真就靠譜，他們馬上就要碰到坎兒了。業界普遍認為193nm光刻無法延伸到65nm技術節點，而157nm將成為主流技術。然而，157nm光刻技術遭遇到了來自光刻機透鏡的巨大挑戰。這是由於絕大多數材料都會強烈地吸收157nm的光波，所以這個就是他們的坎兒。”

  “你仔細和我說說。”

  “現在國外幾家大廠都是使用DUV，也就是深紫外光，通過氟化氪KrF準分子激光來產生波長248nm的光，這種光刻機是現在的主流，他們實驗室裏現在已經基本研發完了通過氟化氬ArF準分子激光來產生波長193nm光波的下一代光刻機，193nm光刻機沒問題。但用F2準分子激光產生波長157nm的光就是個大坑了，他們過不去了，技術解決不了。瓶頸出現了，咱們追趕的機會來了。”

  “那他們的解決辦法是什麽？”

  “研發EUV光刻機，也就是極紫外光刻技術。極紫外光刻使用波長在13.5nm的軟X射線來光刻，相當於用了一把更小、更鋒利的‘刀’。極紫外光刻是5nm等更先進製程的必需工藝。但因為EUV不能穿透透鏡，隻能用特殊的反射鏡來對焦，這樣EUV的能量損失會很大，需要更長的曝光時間，會嚴重影響生產速度，這也就是EUV光刻機難以大規模量產的原因。因此我確信EUV光刻技術15年內完成不了原型機，20年內量產無望。”

  “你確定？”

  “我十分確定一定以及肯定。我了解到的信息是荷蘭阿斯麥公司會聯合花旗國的幾家企業攻堅EUV這個難題，不帶咱們玩，當然，他們也不代表日係廠商玩。尼康和佳能會死磕157nm光刻機，這個是死路一條，等到他們衰落下去了咱們可以聯合他們在國內建廠，吸收他們的技術以後，再一起研發EUV光刻機，7nm以下的製程，DUV光刻機就不行了。”

  “等等，你說DUV光刻不能達到7nm以下？那你的意思是說DUV光刻能突破65nm，甚至28nm、14nm直至7nm？”

  “不錯，能，甚至14nm，7nm都可以，但比較麻煩。”

  “怎麽做？你怎麽研究的？”

  “怎麽研究的你就別管了。我接下來說的話你誰都不能說，包括在網絡上，你看我特意找你辦公室來聊，連icq都不用，你就知道問題的嚴重性了。”

  “有必要這麽謹慎嗎？”

  “當然有必要啦。此前，芯片製造工藝的更新換代是以3年為一個周期，但Intel率先將這個周期縮短為2年。Intel公司在1995年實現了0.35微米工藝量產，1997年他們會推出0.25微米產品，1999年就是0.18微米工藝，到了2001年則實現0.13微米產品的量產。英特爾在忠實地踐行著摩爾定律啊。”

  “兩年一個更新換代，這是要弄死AMD啊。”

  “這才好啊，這樣咱們就可以拉攏AMD，對抗intel了啊。不過呢，這隻可能是一個幻想罷了，英特爾、AMD和微軟之間肯定是有默契的，他們會聯合起來搞死其他所有人，然後他們自己再慢慢玩，但英特爾和AMD誰也不會被玩死，否則他們就涉嫌壟斷了。”