之後的幾天，許秋又做了兩批器件，一批是重複PEN基片的，另一批是在同樣實驗條件下玻璃基片的。

  PTB7-TH體係中，PEN基片的最高效率提高了一點點，達到了8.20%。

  而玻璃基片下的標準樣品，最高效率可達10.26%。

  這個數值，相比於他之前在模擬實驗室中得到的10.68%，稍差一些，可能是器件結構不同造成的。

  PEN基片不能高溫熱退火，所以用的是PEDOT:PSS傳輸層的正常結構，而之前使用的是氧化鋅傳輸層的倒置結構。

  此外，雖然重點在於PTB7-TH體係，但是許秋也做了P3HT體係。

  主要是為了讓文章數據更加豐滿一些，同時也說明這種柔性襯底的加工方式具有普適性。

  再之後，許秋完成了各種表征測試，包括光吸收光譜、熒光光譜、CELIV測試等，還拍了一張用兩隻鑷子彎曲PEN基片器件的照片。

  在實驗進行的間隙，許秋也在同步以論文的形式，寫項目的結題報告。

  這個時候，他前期閱讀了大量的文獻的優勢就體現出來了，再加上他還可以隨時向學姐請教。

  因此論文寫起來壓力並不大。

  正文部分，許秋先將四組器件編號，PEN基片的PTB7-TH、P3HT體係，分別為1#、3#，玻璃基片對應的體係分別為2#、4#。

  然後，主要就是比較玻璃和PEN這兩種基片的不同，對器件性能的影響，並分析其可能的原因。

  像是光學性能，光吸收光譜和熒光光譜都是直接測有效層薄膜的，數據對兩種基片的器件都是一樣的。

  所以不需要比較，直接將得到的圖片信息轉化為文字就可以了。

  比如：1#、2#有效層共混薄膜的主要光吸收範圍在550-750納米，最高吸收峰位置在680納米處，3#、4#的主要光吸收範圍在300-600納米，最高吸收峰位置在530納米處。

  熒光光譜則相對複雜一些，兩種體係都需要分別測試給體、受體單獨組分薄膜和共混薄膜的熒光光譜，然後計算熒光淬滅效率。

  不過，同樣是看圖說話，也沒什麽難度。

  而像是CELIV，則是對電池器件進行表征，那麽不同樣品編號的器件測試的結果就會有所不同，就需要進行比較分析。

  許秋的測試結果：

  1#的載流子遷移率是1.2E-4厘米平方每伏秒，2#是2.5E-4厘米平方每伏秒，顯然2#更高一些，但兩者在同一數量級。

  因為2#對應的電池器件性能更好，就可以解釋為，載流子遷移率的提高導致了器件性能的提高。

  進一步，還可以繼續分析下去，比如遷移率的提高會減小電荷複合情況，增大短路電流密度等等。

  但如果反過來，假如他的測試結果為：

  2#是1.2E-4厘米平方每伏秒，1#是2.5E-4厘米平方每伏秒。

  那麽就可以一筆帶過，說兩者載流子遷移率相差不大，在同一個數量級，或者說載流子遷移率對器件光電性能的影響不大。

  …………

  許秋最開始閱讀文獻的時候，就時常疑惑，對於同樣的一個實驗現象，為什麽有的人說是XXX原因，有的人說是YYY原因，還有人說是XXYY原因，難道學術界裏就沒有一種統一的觀點嗎？

  後來，隨著文獻閱讀量的提升，他逐漸明白了其中的道理。

  材料，或者說所有的實驗學科，所有對實驗結果的解釋其實都是猜想，理論永遠是落後於實驗的。

  不可能憑空創造一個完美的理論模型，如果那樣的話，直接開幾台超算，算出最優結果就行了。

  真實情況是，研究者們需要通過不斷的實驗，得到大量的實驗數據，然後通過這些實驗數據，來建立起一套理論體係。

  但即使這樣建立的體係，可能還是存在很多問題，需要不斷的給理論打補丁。

  同時，其中還會有很多現象難以解釋，這個時候，行業大佬們就會提出很多種觀點。

  而其他研究者們在發表論文時，也會對這些現象進行討論，提出自己的觀點。

  這個過程就類似於辯論。

  最終，學術界可能隻剩下一種統一的觀點，也可能會有多種觀點並存，抑或者在將來又有新理論將之前的理論完全推翻。

  …………

  一周過去，許秋完成了項目結題報告。

  同時，他也收到了係統提示。

  進階任務已完成，獲得2000積分，權限等級+1。

  當前權限等級為3級，模擬實驗係統升級。

  模擬實驗係統LV2：

  可以掃描一定空間內的實驗設備、耗材，並在係統空間中將其完全模擬出來，宿主可以在模擬實驗室中進行實驗，每小時消耗100積分。

  當前可掃描的空間上限1000立方米。

  模擬實驗室內開啟內置加速功能，當前開放倍率0.5-2倍，使用該功能時，消耗積分為100倍率積分每小時。

  獲得進階任務：以第一作者身份發表一篇SCI論文。任務獎勵：2000積分，權限等級+1。

  科研輔助係統

  權限等級：3

  積分：6978

  進行中的任務：3個

  熟練度：

  實驗操作類

  製備手段：

  清洗基片（四階40%/四階50%）

  溶液配製（四階40%/四階50%）

  旋塗（四階40%/四階50%）

  蒸鍍（四階35%/四階50%）

  表征手段：

  光電性能（四階40%/四階80%）

  光學性能（四階5%/四階80%）

  電荷輸運性能（三階30%/四階20%）

  儀器設備工具類

  ……

  特殊類

  文獻閱讀（二階62%/四階50%)

  周常任務I

  周常任務III

  進階任務

  ##

  最近攢下很多積分，不過許秋暫時不打算使用，先當個倉鼠比較好。

  一方麵，現在沒有用模擬實驗室的必要，雖然開啟了加速功能，但2倍速還是不夠看。

  另一方麵，大多數的操作的熟練度已經達到四階以上，失誤率已降到很低，熟練度慢慢隨著時間積累就可以。

  他現在實驗方麵還沒有遇上大的瓶頸，也沒有必要使用五階推演去尋求靈感。

  不知不覺，係統已經陪伴許秋近兩個月的時間，係統也確實如同其名字一般，是輔助科研的用途，不能憑空變出遠超人類當前文明的黑科技，也不能讓他變成超人。

  許秋能有目前的成績，更多的還是靠他自身的努力。

  現階段，係統對他的幫助，已經不如他初涉科研圈時候那麽多了，他隻能期待繼續提升權限等級能夠帶來驚喜了。

  下一個目標，發表SCI論文。